活性氧化镁还原法生产氧化镁晶须

活性氧化镁还原法是利用还原剂在高温下将活性氧化镁还原成镁蒸气。然后用氧气或水将镁蒸气氧化,生成活性氧化镁晶须。常用的还原剂有钨、碳、一氧化碳、铝、氢气等,还原剂的种类、反应条件和反应装置,对活性氧化镁晶须的性质有很大的影响,使用不同的还原剂,在不同的反应条件和不同的反应装置中制得晶须的横断面形状是不同的。碳还原法:将活性氧化镁和碳加入到石墨坩埚中加热到1723.1873K。加热时升温速度应控制在9一12K/min,对于大一些的反应装置,升温速度控制15.50K/min。升温速度加快抑制活性氧化镁晶须的生长。所制晶须有4—6mm长,横截面是正四方形。铝还原法:此反应一般在水平管式炉中进行,温度分别为1573K、1723K、1823K,所用原料活性氧化镁和铝的质量比为2:3,整个反应不需要惰性气体保护。用氢气作还原剂时,加热温度为1500℃一1600℃,炉温控制在900℃一1000。C,活性氧化镁完全气化后,通入水煤气即可制得活性氧化镁晶须。用一氧化碳作还原剂时,反应在管式炉中进行,炉子中有一活性氧化镁质的管,将活性氧化镁放入管中,然后通入一氧化碳气体,当反应温度控制在1400℃一1500℃时,所得晶须长为15mm,直径为20—30um;当反应温度控制在1500℃一1600。C时,所得晶须长30mm,直径300Ltm。此反应也可在石墨真空炉中进行,用石墨加热器加热,反应温度控制在2000℃以下。