光刻镜头畸变的检测方法

光学系统发生畸变的原因及其调整方法，因为畸变的存在，硅片在光刻时其表面的图形发生变异，使得图形不能完全套准，而不可在另外的机台上继续下一道光刻。

不良的扫描几何结构和温度变化是畸变产生的主要原因。当CARRIAGE扫描摆动转轴与投影光学系统的相互位置不恰当时畸变则在此产生。

温度的变化将引起材料的热胀冷缩，导致扫描机构发生微小变异而产生畸变。同时，温度的变化还会影响焦距、平行度等变化，所以在调整畸变时，首先要控制温度，确保温度稳定适合。

畸变现象就是：在对位准确的情况下，光刻板投影到硅片上的对应图形仍然发生偏移。

左右偏移为垂直扫描方向畸变，见图3。畸变使得不同光刻机之间不能互套，给生产及维护带来不便。通过调节光刻机上的左右畸变调整。

使得投影光学系统的分光镜发生水平和垂直方向的旋转，使之消除畸变，改善机器的兼容性、实现不同光刻机之间的互套。