半导体器件生产中玻璃硅片须经严格清洗。微量污染也会导致器件失效。清洗的目的在于清除表面污染杂质，包括有机物和无机物。这些杂质有的以原子状态或离子状态，有的以薄膜形式或颗粒形式存在于硅片表面。有机污染包括光刻胶、有机溶剂残留物、合成蜡和人接触器件、工具、器皿带来的油脂或纤维。无机污染包括重金属金、铜、铁、铬等，严重影响少数载流子寿命和表面电导；碱金属如钠等，引起严重漏电；颗粒污染包括硅渣、尘埃、细菌、微生物、有机胶体纤维等，会导致各种缺陷。将超声波清洗机应用到玻璃硅片生产中，不仅环保还提高产品质量。
工具/原料
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一台玻璃硅片超声波清洗机
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主要是清洗玻璃硅片的手指印、污点、粉尘
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需用到纯水和清洗剂
方法/步骤
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玻璃硅片使用深圳威固特超声波清洗机进行清洗，那么它的基本工作机理怎么样呢？1.欲清洗工件放入料框内专用固定夹内，由人工将料框放上入料口，等工位机械手自动将料框送入清洗机本体，上下提升机构依照PLC指定的程序将料框搬送到相应高度位置；2.完成对工件的清洗、喷淋、漂洗、慢提拉脱水和热风干燥后、送至清洗机出口，运送到卸料台出料；3.等工位机械手由气缸横向驱动，直线滑轨导向；4.上下提升由马达驱动，直线导轴导向；慢提拉提升机构由变频马达驱动，直线滑块导向；5.上下料由上下提升机构独立完成；6.采用触摸屏操作系统,有手动和自动切换开关及有关操作按钮，能对整个运行过程实行控制。
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此超声波清洗设备的应用范围据说也是挺广泛的是吗？适用于硅片、水晶、光学玻璃、蓝宝石、陶瓷等清除被加工物表面的油污、研磨切削液等
注意事项
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总是尽可能地使用最低压力来工作，但这个压力要能足以完成工作。
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在断开软管连接之前，总是要先释放掉清洗机里的压力。