化合物KBaCuV2O7Cl晶体结构
化合物KBaCuV2O7Cl的性能研究
化合物KBaCuV2O7Cl晶体结构：该氧化物中Cu，V及共同占据的KBa都只有一个位点，O原子有三个位点，其中Cu是五配位，与四个O2形成的配位的键长大小相等，都为1.939Å，与一个Cl原子形成配位的键长大小为2.578Å(图(a))；V是四配位，与一个O1形成配位的键长大小为1.682Å，两个O2形成配位的键长大小为1.683Å，一个O3形成配位的键长大小为1.812Å(图(b))；KBa共同占据属于8配位，与两个Cl原子形成的配位的键长大小均为3.363Å，与三个O1形成配位的键长大小分别为2.901Å和2.912Å，与两个O2形成配位的键长均为2.856Å，与一个O3形成配位的键长大小为2.816Å(图(c))
沿b轴方向看，我们可以知道该物质属于二维的层状结构，且层与层之间填充着共同占据的KBa离子，而a-c面上，而链与链之间的Cu2+与Cu2+之间的距离大小为5.471Å
沿c轴方向上看，每个Cu2+离子周围链接着四个(V2O7)4-基团，所有的V原子拥有同样的z坐标。Cu2+离子之间通过—O—V—O—键链接起来，其中在a-b面上，Cu2+与Cu2+之间的距离值为6.264Å
化合物KBaCuV2O7Cl的磁性：为了揭示氧化物KBaCuV2O7Cl的磁性，做了如下测试：在磁场为1000Oe，温度范围为2-300K(降温测试)的直流磁化率，从下图中，我们可以看到(曲线—圆圈表示)，随着温度的升高，该氧化物的磁化率就越低，这说明该化合物总的磁性是顺磁的相互作用。其磁化率的倒数(直线—正方形表示)是一条线性直线，对磁化率的倒数(2K-300K)做居里外斯拟合，可以得到其顺磁居里温度θCW=2.93K且大于0K，证实了该化合物的局部存在着微弱的铁磁性耦合。导致这种现象的主要原因是Cu2+与Cu2+之间的距离相隔比较远，这样使相互的耦合作用很弱。
下图中，在2K下，外加磁场为-80000~80000Oe的作用下，在-20000~20000Oe的范围内，可以观察到磁矩随着磁场的增加呈线性增加，随着磁场的进一步增大，磁矩最终趋向饱和。这进一步证实了顺磁性的发生。